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雷鋒網消息，據(jù)微博用戶鼎盛風清稱，荷蘭政府將根據(jù)瓦森納國際協(xié)議，禁止阿斯邁（ASML）公司向中國出口極紫外（EUV）光刻機。
不過，雷鋒網了解到，該消息還未最終證實。
雷鋒注：圖為微博截圖
據(jù)《路透社》報道，美國方面為“阻止荷蘭向中國出售芯片制造技術”，暗中進行了大量工作。據(jù)悉，美國的單方面 “阻止運動” 開始于 2018 年，荷蘭政府向 ASML 發(fā)放了出口許可證，允許其向中國公司中芯科技出口一臺價值 1.5 億美元的 EUV 光刻機。
據(jù)消息人士透露，在荷蘭政府發(fā)放出口許可證之后的幾個月中，美國的政府官員仔細研究了他們是否可以徹底阻止出售，并與荷蘭政府相關人士進行了至少四輪談判。
2019 年 7 月 18 日，美國總統(tǒng)國家安全事務代理助理 Charles Kupperman 給到訪華盛頓的荷蘭首相馬克 · 呂特一份秘密情報，報告中大談“中國獲得光刻機的可能后果”。在馬克 · 呂特訪問過白宮不久之后，荷蘭政府選擇不續(xù)簽 ASML 的出口許可。
雷鋒網注：圖源網易
而對于此前已經購買的價值 1.5 億美元的 EUV 光刻機，原計劃應在 2019 年年初就交付到中國。不過，后來 ASML 方面因倉庫遇火延后了 EUV 光刻機的交付時間，改為在 2020 年的年中交付。
在媒體首次報道延遲交貨時，荷蘭 ASML 公司表示，公司仍在等待新許可證申請的批準，并拒絕進一步給予評論。
另外，對于美國政府的施壓的說法，荷蘭外交部發(fā)言人在 1 月 15 日表示，在決定是否簽發(fā)出口許可證時，荷蘭政府要權衡經濟和安全利益。
關于此事，中國方面也表明了態(tài)度。2020 年 1 月 17 日，據(jù)《金融時報》報道，中國駐荷蘭大使徐宏在采訪中表示，如果媒體報道屬實，即如美國向荷蘭施壓，荷蘭政府因此不再批準向中國出口 EUV 光刻機，那么這種做法就是典型的將商業(yè)問題政治化。按照相關法律及國際協(xié)議，美國沒有理由要求荷方限制 ASML 對華出口。
另外，徐宏還表示，希望荷蘭政府能綜合考慮自身利益、荷蘭企業(yè)利益，本著公平貿易及法治的精神，作出正確判斷。如果荷蘭政府在政策取向上追隨美國，基于政治原因對中荷經貿往來施加不公平的限制，毫無疑問將會影響兩國合作。因為所有的合作都應當是對等互惠的。
在主流微電子制造過程中，光刻是最復雜、昂貴和關鍵的工藝，占總成本的 1/3；目前的 28nm工藝則需要 20 道以上光刻步驟，耗費時間約占整個硅片工藝的 40-60%。
光刻工藝決定著整個 IC 工藝的特征、尺寸，代表著工藝技術發(fā)展水平。由于高技術要求，光刻機制造難度極大，全世界只有少數(shù)幾家公司能夠制造，主要有 ASML、Nikon 和 Canon 等。
而 EUV 光刻機作為現(xiàn)今最先進的芯片制造設備，是唯一能夠生產 7nm 以下制程的設備，因此，其也被稱為“突破摩爾定律的救星”。也就是說，必須使用 EUV 光刻機才能使半導體芯片進入 7nm，甚至 5nm 時代。
在 EUV 光刻機的生產上，ASML 公司是該領域的領軍企業(yè)，同時也是全球唯一能生產 EUV 的企業(yè)。
據(jù)了解，ASML 的設備使用由激光產生，并通過巨型鏡子聚焦的極紫外（EUV）光束，在硅片（被稱為晶圓）上鋪設非常狹窄的電路。這能讓廠商制造更快、更強大的微處理器、內存芯片和其他先進元件；而這些元件不論是對消費類電子產，還是對軍事應用來說都至關重要。
另外，值得一提的是，目前，國內光刻機廠商有上海微電子、中電科集團四十五研究所、合肥芯碩半導體等，但由于技術難度巨大，但短期內還是處于相對劣勢的地位。
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